院所代碼 | 院系所名稱(chēng) | 科目名稱(chēng) | 考試大綱 |
015 | 信息光電子科技學(xué)院 | 01502光電及材料綜合 |
一、考試內(nèi)容 本復(fù)試科目包括工程光學(xué)、電子技術(shù)和材料基礎(chǔ)三部分內(nèi)容。三部分內(nèi)容各包含10個(gè)試題,共30個(gè)試題,每題10分。參加復(fù)試的考生只需選做其中的10題,多做者按得分最高的10題計(jì)分。 (一)工程光學(xué)部分包括幾何光學(xué)和物理光學(xué),復(fù)試內(nèi)容為: 幾何光學(xué)基本原理,共軸球面系統(tǒng)的物像關(guān)系,目視光學(xué)系統(tǒng),平面鏡及棱鏡系統(tǒng),光學(xué)系統(tǒng)中成像光束的選擇,輻射度學(xué)和光度學(xué)基礎(chǔ),色度學(xué)基礎(chǔ),光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量評(píng)價(jià);光的電磁理論,光的干涉及衍射,衍射光柵及光的色散,光的偏振,晶體光學(xué)及雙折射,傅里葉光學(xué)。 (二)電子技術(shù)部分包括模擬電子技術(shù)和數(shù)字電子技術(shù),復(fù)試內(nèi)容為: 常用半導(dǎo)體器件,基本放大電路,多級(jí)放大電路,集成運(yùn)算放大電路,放大電路的頻率響應(yīng),放大電路中的反饋,信號(hào)的運(yùn)算與處理,波形的發(fā)生和信號(hào)的轉(zhuǎn)換,功率放大電路,直流電源;邏輯代數(shù)基礎(chǔ),門(mén)電路,TTL和CMOS門(mén)電路的邏輯功能與特性、主要參數(shù)和使用方法,組合邏輯電路、特點(diǎn)、分析及設(shè)計(jì)方法,常用集成組合邏輯器件的邏輯功能及使用方法,觸發(fā)器的邏輯功能、電路結(jié)構(gòu)及其描述方法,時(shí)序邏輯電路、特點(diǎn)、描述及分析方法,脈沖的產(chǎn)生與整形,施密特觸發(fā)器,單穩(wěn)態(tài)觸發(fā)器和多諧振蕩器的工作原理、主要參數(shù)的分析方法及應(yīng)用。 (三)材料基礎(chǔ)部分的復(fù)試內(nèi)容為: 原子鍵合,固體結(jié)構(gòu),晶體缺陷;擴(kuò)散遷移,變形與再結(jié)晶;相與相平衡,相圖及材料的凝固與結(jié)晶;材料的主要測(cè)試方法;激光與物質(zhì)作用機(jī)理及主要的加工方法及應(yīng)用;材料力學(xué)性能指標(biāo)的物理意義,材料形變與斷裂行為的基本規(guī)律及其與材料組成和結(jié)構(gòu)之間的關(guān)系,提高材料力學(xué)性能的途徑和機(jī)理;材料電學(xué)、光學(xué)、磁學(xué)、熱學(xué)性能的本質(zhì),影響材料性能的因素,材料性能表征以及應(yīng)用;材料成形的主要方法、原理和特點(diǎn)。 二、試題結(jié)構(gòu) 填空、判斷、簡(jiǎn)答、計(jì)算、設(shè)計(jì)、綜述等。 三、復(fù)試時(shí)間 3小時(shí) |
015 | 信息光電子科技學(xué)院 | 01501光學(xué)綜合 | 1.光的電磁理論基礎(chǔ)。2.光的干涉原理及應(yīng)用。3.光的衍射特性及其應(yīng)用。4.光在各向異性介質(zhì)中的傳播特性,光的偏振及晶體光學(xué)器件。5.光的吸收、色散和散射特性。6. 幾何光學(xué)基本概念和基本定律,基本光學(xué)元件及其成像特性。7. 掌握理想光學(xué)系統(tǒng)及其成像關(guān)系。8.基本助視光學(xué)儀器的基本原理和結(jié)構(gòu)。9.激光形成的條件,激光器的工作原理及特性。10. 光纖和光波導(dǎo)的傳輸原理,光纖的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及應(yīng)用。復(fù)試筆試時(shí)間:3小時(shí) |